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<>設備特點

所有真空室為模塊化設計,數目可根據具體應用增減

每個工藝室裝備1對FCVA源及1對平面濺射靶或圓柱靶

濺射靶可由直流、中頻或射頻電源驅動

基體可預加熱,并配備有離子束預清洗功能 ?


數字閉環PID真空控制系統,配合精密閥門,準確穩定工藝真空到設定值

產品裝載支架高達 500mm, 直徑900mm

特殊設計的真空鎖閥門,節拍高達5分鐘/爐

連續鍍膜時間長達3天3夜