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<>設備特點

配備分離的工藝真空室及裝卸載真空室,提高生產效率,保證膜層質量

配備FCVA鍍膜源,磁控濺射源及離子束清洗源

樣品支架可多角度旋轉及自轉


  系統采用單個或一對FCVA鍍膜源配置,包括一個工藝真空室、一個裝卸載真空室、一架FCVA碳源、一架FCVA金屬源 (可選)或一個磁控濺射源(可選)、一個離子束清洗源,可長時間保證工藝真空室高真空要求,從而提高生產效率及保證膜層質量。樣品支架采用特殊設計,立式結構,可傾斜、公轉、自旋轉、加偏壓。該系統還可設計為具有多源同時沉積等特殊工藝要求的機臺,可在高真空環境下連續鍍膜,從而提供品質優異、均勻性好、重復性高的鍍膜產品,是精密模具、精密部件表面鍍膜、生產超薄高性能膜層的最佳選擇。