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FCVA 過濾陰極真空電弧平臺鍍膜

采用納峰國際專利的FCVA過濾陰極真空電弧技術,鍍膜粒子為100%離化的等離子。在無需加熱被鍍工件的條件下,經過電磁場交互作用后,FCVA鍍膜離子與普通鍍膜PVD、CVD鍍膜技術相比具有更高,更均勻的能量,從而在低溫條件下可在工件表面形成致密、超高硬度、超強附著力的膜層,解決了其他傳統鍍膜 技術不可避免的由于高溫沉積而引發的眾多問題。

FCVA過濾陰極真空電弧技術的優點

100% 等離子體鍍膜粒子,能量及方向可調

膜層致密、高硬度、高均勻性

超強附著力

室溫沉積

FCVA過濾陰極真空弧設備原理圖

FCVA 鍍膜源特點

純等離子體沉積技術

鍍膜粒子能量及方向可調

特殊陰極/ 陽極設計,確保電弧穩定性

自動割靶設計(石墨靶材)

室溫沉積

全自動控制,友好的用戶界面

實時工藝監控

用戶自定義鍍膜工藝參數

支持參數、操作數據輸出

動態實時補償模式



PVD (磁控濺射)CVD(PECVD)FCVA
鍍膜粒子原子原子反應基團離子
鍍膜能量~0.1eV~1eV20to5000eV
工作氣壓7E-1Pa1Pa1E-3Pa
附著力普通普通很好
膜層密度~2.2g/cm3~2.0g/cm3~3.4g/cm3
鍍膜均勻性不可調不可調可調
鍍膜原材料固體氣體固體
鍍膜溫度高溫高溫室溫